发明授权
- 专利标题： Controlling substrate surface properties via colloidal coatings
- 专利标题（中）： 通过胶体涂层控制底物表面性能
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申请号： US11729644申请日： 2007-03-29
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公开(公告)号： US07687890B2公开(公告)日： 2010-03-30
- 发明人: Gopalakrishnan Subramanian , Nirupama Chakrapani , Larry DeCesare , Shripad Gokhale , Jason Murphy , Jinlin Wang
- 申请人： Gopalakrishnan Subramanian , Nirupama Chakrapani , Larry DeCesare , Shripad Gokhale , Jason Murphy , Jinlin Wang
- 申请人地址： US CA Santa Clara
- 专利权人： Intel Corporation
- 当前专利权人： Intel Corporation
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara
- 代理机构： Caven & Aghevli LLC
- 主分类号： H01L23/00
- IPC分类号： H01L23/00 ; H01L21/00
摘要：
Methods and apparatus to control surface properties via colloidal coatings are described. In one embodiment, colloidal coating may be used on a surface to enhance flow control. Other embodiments are also described.
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