发明授权
- 专利标题： Method of fabricating polymer modulators with etch stop clads
- 专利标题（中）： 用蚀刻阻挡层制造聚合物调制剂的方法
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申请号： US11753052申请日： 2007-05-24
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公开(公告)号： US07713428B2公开(公告)日： 2010-05-11
- 发明人: Bing Li , Danliang Jin , Raluca Dinu , Guomin Yu
- 申请人： Bing Li , Danliang Jin , Raluca Dinu , Guomin Yu
- 申请人地址： US WA Bothwell
- 专利权人： GigOptix, Inc.
- 当前专利权人： GigOptix, Inc.
- 当前专利权人地址： US WA Bothwell
- 代理机构： Graybeal Jackson LLP
- 主分类号： B29D11/00
- IPC分类号： B29D11/00
摘要：
A process that comprises dry etching a trench into a side clad polymer layer using an underlying passive polymer layer as an etch stop, and then back filling the trench with an electro-optic polymer.
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