发明授权
- 专利标题： MEMS apparatus and method of manufacturing the same
- 专利标题（中）： MEMS装置及其制造方法
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申请号： US12195587申请日： 2008-08-21
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公开(公告)号： US07906823B2公开(公告)日： 2011-03-15
- 发明人: Kazuhiro Suzuki , Michihiko Nishigaki , Yutaka Onozuka , Hiroshi Yamada , Kazuhiko Itaya , Hideyuki Funaki
- 申请人： Kazuhiro Suzuki , Michihiko Nishigaki , Yutaka Onozuka , Hiroshi Yamada , Kazuhiko Itaya , Hideyuki Funaki
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Kabushiki Kaisha Toshiba
- 当前专利权人： Kabushiki Kaisha Toshiba
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Turocy & Watson, LLP
- 优先权： JP2007-215141 20070821
- 主分类号： H01L29/84
- IPC分类号： H01L29/84
摘要：
A MEMS apparatus includes a MEMS unit formed on a semiconductor substrate and a cover provided with a pore and serving to seal the MEMS unit. The pore is sealed with a sealing material shaped in a sphere or a hemisphere.
公开/授权文献
- US20090050988A1 MEMS APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 公开/授权日：2009-02-26
信息查询
IPC分类:
