发明授权
- 专利标题： Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof
- 专利标题（中）： 图案形成结构，图案形成方法及其应用
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申请号： US11867842申请日： 2007-10-05
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公开(公告)号： US07965446B2公开(公告)日： 2011-06-21
- 发明人: Hironori Kobayashi , Manabu Yamamoto , Daigo Aoki , Hironori Kamiyama , Shinichi Hikosaka , Mitsuhiro Kashiwabara
- 申请人： Hironori Kobayashi , Manabu Yamamoto , Daigo Aoki , Hironori Kamiyama , Shinichi Hikosaka , Mitsuhiro Kashiwabara
- 申请人地址： JP Tokyo-to
- 专利权人： Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- 当前专利权人： Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo-to
- 代理机构： Ladas & Parry LLP
- 优先权： JP9-214845 19970808; JP9-300295 19971031; JP9-313041 19971114; JP10-100369 19980327; JP10-085955 19980331; JP10-086293 19980331; JP10-165392 19980612; JP10-167316 19980615; JP10-183370 19980615
- 主分类号： G02B27/10
- IPC分类号： G02B27/10
摘要：
A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
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