发明授权
- 专利标题： Lithographic apparatus and lithographic apparatus cleaning method
- 专利标题（中）： 光刻设备和光刻设备清洗方法
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申请号： US11437876申请日： 2006-05-22
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公开(公告)号： US07969548B2公开(公告)日： 2011-06-28
- 发明人: Marco Koert Stavenga , Hans Jansen , Peter Franciscus Wanten , Johannes Wilhelmus Jacobus Leonardus Cuijpers , Raymond Gerardus Marius Beeren
- 申请人： Marco Koert Stavenga , Hans Jansen , Peter Franciscus Wanten , Johannes Wilhelmus Jacobus Leonardus Cuijpers , Raymond Gerardus Marius Beeren
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52 ; B08B3/12
摘要：
An immersion lithographic projection apparatus having a megasonic transducer configured to clean a surface and a method of using megasonic waves to clean a surface of an immersion lithographic projection apparatus are disclosed.
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