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发明授权
US08318288B2 Optical element, lithographic apparatus including such optical element and device manufacturing method, and device manufactured thereby 失效
光学元件，包括这种光学元件的光刻设备和器件制造方法，以及由此制造的器件

  • 专利标题： Optical element, lithographic apparatus including such optical element and device manufacturing method, and device manufactured thereby
  • 专利标题（中）： 光学元件，包括这种光学元件的光刻设备和器件制造方法，以及由此制造的器件
  • 申请号： US10981736
    申请日： 2004-11-05
  • 公开(公告)号： US08318288B2
    公开(公告)日： 2012-11-27
  • 发明人: Levinus Pieter Bakker
  • 申请人： Levinus Pieter Bakker
  • 申请人地址： NL Veldhoven
  • 专利权人： ASML Netherlands B.V.
  • 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
  • 当前专利权人地址： NL Veldhoven
  • 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
  • 优先权： EP03078495 20031106
  • 主分类号： G02B17/00
  • IPC分类号： G02B17/00
Optical element, lithographic apparatus including such optical element and device manufacturing method, and device manufactured thereby
摘要：
An optical element includes a top layer which is transmissive for EUV radiation with wavelength λ in the range of 5-20 nm, and a structure of the top layer is a structure having an rms roughness value equal to or larger than λ/10 for spatial periods equal to or smaller than λ/2. The structure promotes transmission through the top layer to the optical element.
摘要（中）：

光学元件包括对波长λ在5-20nm范围内的EUV辐射透射的顶层，并且顶层的结构是具有等于或大于λ/ 10的rms粗糙度的结构用于空间 周期等于或小于λ/ 2。 该结构促进通过顶层的传输到光学元件。

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