发明授权
- 专利标题： Method of exposing substrate, apparatus for performing the same, and method of manufacturing display substrate using the same
- 专利标题（中）： 曝光基板的方法，其制造方法以及使用其制造显示基板的方法
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申请号： US12778574申请日： 2010-05-12
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公开(公告)号： US08367281B2公开(公告)日： 2013-02-05
- 发明人: Bo-Kyoung Ahn , Gug-Rae Jo , Hong-Suk Yoo , Chang-Hoon Kim , Min-Uk Kim , Joo-Han Bae
- 申请人： Bo-Kyoung Ahn , Gug-Rae Jo , Hong-Suk Yoo , Chang-Hoon Kim , Min-Uk Kim , Joo-Han Bae
- 申请人地址： KR Yongin, Gyeonggi-Do
- 专利权人： Samsung Display Co., Ltd.
- 当前专利权人： Samsung Display Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Yongin, Gyeonggi-Do
- 代理机构： F. Chau & Associates, LLC
- 优先权： KR2009-0119736 20091204
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G02B5/20
摘要：
A photoresist layer exposed through first slits of a mask is exposed using first light. The photoresist layer exposed through second slits of the mask is exposed by using second light. The first light passes thorough a transflective shutter to generate the second light.
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