发明授权
- 专利标题： Methods of forming electronic devices
- 专利标题（中）： 形成电子器件的方法
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申请号： US12825134申请日： 2010-06-28
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公开(公告)号： US08492068B2公开(公告)日： 2013-07-23
- 发明人: Young Cheol Bae , Thomas Cardolaccia , Yi Liu
- 申请人： Young Cheol Bae , Thomas Cardolaccia , Yi Liu
- 申请人地址： US MA Marlborough
- 专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址： US MA Marlborough
- 代理商 Jonathan D. Baskin
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/004 ; G03F7/40
摘要：
Methods of forming electronic devices are provided. The methods involve alkaline treatment of photoresist patterns and allow for the formation of high density resist patterns. The methods find particular applicability in semiconductor device manufacture.
公开/授权文献
- US20100330503A1 METHODS OF FORMING ELECTRONIC DEVICES 公开/授权日：2010-12-30
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