发明授权
US08535855B2 Mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, mask blank, and transfer mask
有权
掩模毛坯制造方法，转印掩模制造方法，掩模毛坯和转印掩模
- 专利标题： Mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, mask blank, and transfer mask
- 专利标题（中）： 掩模毛坯制造方法，转印掩模制造方法，掩模毛坯和转印掩模
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申请号： US13109132申请日： 2011-05-17
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公开(公告)号： US08535855B2公开(公告)日： 2013-09-17
- 发明人: Kazuya Sakai , Masahiro Hashimoto
- 申请人： Kazuya Sakai , Masahiro Hashimoto
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Hoya Corporation
- 当前专利权人： Hoya Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2010-115834 20100519
- 主分类号： G03F1/68
- IPC分类号： G03F1/68 ; B08B7/02
摘要：
Provided is a method of manufacturing a mask blank having a thin film on a transparent substrate. The method includes forming the thin film made of a material containing a transition metal on the transparent substrate and applying a superheated steam treatment to the thin film.
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