Salt, photoresist composition and process for producing photoresist pattern

发明授权

US08685617B2 Salt, photoresist composition and process for producing photoresist pattern 有权

标题翻译：盐，光致抗蚀剂组合物和制造光致抗蚀剂图案的方法

专利标题： Salt, photoresist composition and process for producing photoresist pattern
专利标题（中）： 盐，光致抗蚀剂组合物和制造光致抗蚀剂图案的方法
申请号： US13333521

申请日： 2011-12-21
公开(公告)号： US08685617B2

公开(公告)日： 2014-04-01
发明人: Koji Ichikawa , Isao Yoshida , Yuki Suzuki
申请人： Koji Ichikawa , Isao Yoshida , Yuki Suzuki
申请人地址： JP Tokyo
专利权人： Sumitomo Chemical Company, Limited
当前专利权人： Sumitomo Chemical Company, Limited
当前专利权人地址： JP Tokyo
代理机构： Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
优先权： JP2010-287364 20101224
主分类号： G03F7/004
IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/028 ; C07C309/02 ; C07C309/04 ; C07C309/06

摘要：

A salt represented by the formula (I): wherein Q1, Q2, L1, L2, ring W, s, t, R1, R2 and Z+ are defined in the specification.

摘要（中）：

由式（I）表示的盐：其中Q1，Q2，L1，L2，环W，s，t，R1，R2和Z +在说明书中定义。

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）