发明授权
- 专利标题： Etch patterning of nanostructure transparent conductors
- 专利标题（中）： 纳米结构透明导体的蚀刻图案
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申请号： US13069837申请日： 2011-03-23
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公开(公告)号： US09023217B2公开(公告)日： 2015-05-05
- 发明人: Adrian Winoto , Jeffrey Wolk
- 申请人： Adrian Winoto , Jeffrey Wolk
- 申请人地址： US CA Sunnyvale
- 专利权人： Cambrios Technologies Corporation
- 当前专利权人： Cambrios Technologies Corporation
- 当前专利权人地址： US CA Sunnyvale
- 代理机构： Seed IP Law Group PLLC
- 主分类号： H01B13/00
- IPC分类号： H01B13/00 ; H05K3/06 ; B82Y10/00 ; H01B1/22 ; H01L31/0224 ; H05K1/09
摘要：
A patterned transparent conductor including a conductive layer coated on a substrate is described. More specifically, the transparent conductor can be patterned by screen-printing an acidic etchant formulation on the conductive layer. A screen-printable etchant formulation is also disclosed.
公开/授权文献
- US20110253668A1 ETCH PATTERNING OF NANOSTRUCTURE TRANSPARENT CONDUCTORS 公开/授权日：2011-10-20
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