发明授权
- 专利标题： Radiation-sensitive composition
- 专利标题（中）： 辐射敏感组合物
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申请号： US13527731申请日： 2012-06-20
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公开(公告)号： US09140984B2公开(公告)日： 2015-09-22
- 发明人: Yuji Yada , Tooru Kimura , Tomohiro Utaka
- 申请人： Yuji Yada , Tooru Kimura , Tomohiro Utaka
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： JSR CORPORATION
- 当前专利权人： JSR CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oblon, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P.
- 优先权： JP2009-291346 20091222
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; C08F12/22 ; C08F212/14
摘要：
A radiation-sensitive composition includes a polymer composition and a radiation-sensitive acid generator. The polymer composition includes a first polymer and a second polymer. The first polymer includes a repeating unit shown by a following formula (1). The second polymer includes a repeating unit shown by a following formula (2) and does not include a repeating unit shown by the formula (1).
公开/授权文献
- US20120282550A1 RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION 公开/授权日：2012-11-08
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IPC分类:
