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发明授权
US09261436B2 Fluid treatment device and method for treating fluid 有权
流体处理装置及其处理方法

  • 专利标题： Fluid treatment device and method for treating fluid
  • 专利标题（中）： 流体处理装置及其处理方法
  • 申请号： US14234686
    申请日： 2012-07-23
  • 公开(公告)号： US09261436B2
    公开(公告)日： 2016-02-16
  • 发明人: Koichi Ono
  • 申请人： Koichi Ono
  • 申请人地址： JP Saitama
  • 专利权人： Enplas Corporation
  • 当前专利权人： Enplas Corporation
  • 当前专利权人地址： JP Saitama
  • 代理机构： Brundidge & Stanger, P.C.
  • 优先权： JP2011-161914 20110725; JP2012-160407 20120719
  • 国际申请： PCT/JP2012/004651 WO 20120723
  • 国际公布： WO2013/014905 WO 20130131
  • 主分类号： F16K7/17
  • IPC分类号： F16K7/17 ;  G01N1/10 ;  B01J19/00 ;  B01L3/00
Fluid treatment device and method for treating fluid
摘要：
A fluid treatment device (100) has a first substrate (210), a second substrate (120), and a resin film (130) located between the first substrate (210) and the second substrate (120). On the first substrate (210) are formed a first flow channel (111), a region (214) facing a valve formed at the end of the first flow channel (111), a second flow channel (112), and a barrier wall (215) located between the region (214) facing the valve and the end of the second flow channel (112). On the second substrate (120) is formed a pressure compartment (123). The region (214) facing the valve and the barrier wall (215) face the pressure compartment (123) on opposite sides of a diaphragm (131) of resin film (130).
摘要（中）：

流体处理装置（100）具有位于第一基板（210）和第二基板（120）之间的第一基板（210），第二基板（120）和树脂薄膜（130）。 在第一基板（210）上形成第一流动通道（111），面对形成在第一流动通道（111）的端部处的阀的区域（214），第二流动通道（112）和阻挡壁 （215），位于面向阀的区域（214）和第二流动通道（112）的端部之间。 在第二基板（120）上形成有压力室（123）。 面对阀门和阻挡壁（215）的区域（214）面对位于树脂膜（130）的隔膜（131）的相对侧上的压力室（123）。

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