发明授权
US09353229B2 Compositions incorporating dielectric additives for particle formation, and methods of particle formation using same
有权
包含用于颗粒形成的电介质添加剂的组合物和使用其形成颗粒的方法
- 专利标题： Compositions incorporating dielectric additives for particle formation, and methods of particle formation using same
- 专利标题（中）： 包含用于颗粒形成的电介质添加剂的组合物和使用其形成颗粒的方法
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申请号： US13966895申请日： 2013-08-14
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公开(公告)号： US09353229B2公开(公告)日： 2016-05-31
- 发明人: Evan Koslow , Jocelyn Tindale , Ryan Gerakopoulos , Chitral Angammana , Tatiana Lazareva
- 申请人： Evan Koslow , Jocelyn Tindale , Ryan Gerakopoulos , Chitral Angammana , Tatiana Lazareva
- 申请人地址： US TX Dallas
- 专利权人： GABAE Technologies LLC
- 当前专利权人： GABAE Technologies LLC
- 当前专利权人地址： US TX Dallas
- 代理机构： Bereskin & Parr LLP/S.E.N.C.R.L., s.r.l.
- 主分类号： C08K3/22
- IPC分类号： C08K3/22 ; C08K5/06 ; C08J3/12 ; D01D5/00 ; C08L23/12 ; C03B19/10 ; C03B37/005 ; D01D5/098 ; D01D5/18 ; D01F1/02 ; B05B3/10 ; B05B5/08 ; C08J3/20 ; C08K5/14 ; C08J3/02 ; D01D5/26 ; D01F6/06 ; B05B3/00 ; B05B7/00
摘要：
A method of forming particles that includes performing a strong force attenuation of a mixture to form pre-particles. The mixture including a base compound and a dielectric additive having an elevated dielectric constant dispersed therein. The pre-particles are then dielectrically spun in an electrostatic field to further attenuate the pre-particles and form the particles.
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