发明授权
- 专利标题： Continuous processing device
- 专利标题（中）： 连续处理装置
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申请号： US14423045申请日： 2013-02-25
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公开(公告)号： US09527058B2公开(公告)日： 2016-12-27
- 发明人: Yo Doya , Hidenori Goto
- 申请人： TSUKISHIMA KIKAI CO., LTD.
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： TSUKISHIMA KIKAI CO., LTD.
- 当前专利权人： TSUKISHIMA KIKAI CO., LTD.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Muncy, Geissler, Olds & Lowe, P.C.
- 优先权： JP2012-187292 20120828
- 国际申请： PCT/JP2013/054740 WO 20130225
- 国际公布： WO2014/034158 WO 20140306
- 主分类号： B01J19/24
- IPC分类号： B01J19/24 ; B01F5/00 ; B01F5/10 ; B01F7/18 ; B01F13/10 ; B01F3/08 ; C01G53/00 ; B01J19/18 ; B01F15/06
摘要：
To provide a processing device which is small but which can exhibits a sufficient processing amount and a uniform contact processing property. In the processing vessel 10, a liquid flow is set to a spiral flow, and in a contact processing field, the injection liquid A, B are injected at a center-side position with respect to an inner surface of the processing vessel so as to perform contact processing.
公开/授权文献
- US20150217264A1 CONTINUOUS PROCESSING DEVICE 公开/授权日：2015-08-06
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