• 专利标题: Inner tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus
  • 申请号: US82977
    申请日: 1998-02-02
  • 公开(公告)号: USD407696S
    公开(公告)日: 1999-04-06
  • 设计人: Tomohisa Shimazu
  • 申请人: Tomohisa Shimazu
  • 申请人地址: JPX Tokyo-to
  • 专利权人: Tokyo Electron Limited
  • 当前专利权人: Tokyo Electron Limited
  • 当前专利权人地址: JPX Tokyo-to
  • 优先权: JPX9-65096 19970820
Inner tube for use in a semiconductor wafer heat processing apparatus
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