外观设计
- 专利标题： Microwave introducing antenna for a plasma processing apparatus
- 专利标题（中）： 用于等离子体处理装置的微波引入天线
-
申请号： US29281079申请日： 2007-06-14
-
公开(公告)号： USD563949S1公开(公告)日： 2008-03-11
- 设计人: Jun Yamashita , Cai Zhong Tian
- 申请人： Jun Yamashita , Cai Zhong Tian
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Tokyo Electron Limited
- 当前专利权人： Tokyo Electron Limited
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
- 优先权： JP2006-034513 20061215
- LOC分类号： 14-03
信息查询
