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WO2003085740A1 不揮発性メモリおよびその製造方法 审中-公开
非易失性存储器及其制造方法

不揮発性メモリおよびその製造方法
Abstract:
表裏面を貫通する第1の電極(18)を有する絶縁基板(11)と、絶縁基板(11)の一方面側に形成された第2の電極(13)と、第1の電極(18)と第2の電極(13)との間に挟持され、第1の電極(18)および第2の電極(13)間に電気的パルスを印加することにより抵抗値が変化する記録層(12)とを備え、絶縁基板(11)は、有機誘電体薄膜(112)と、有機誘電体薄膜(112)よりも厚みが小さい無機誘電体層(111)との積層構造を備えており、無機誘電体層(111)が形成された側に記録層(12)が形成されている不揮発性メモリである。この不揮発性メモリによれば、省電力化を図りつつ、データの書き換え可能回数を増大することができる。
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