Invention Application
- Patent Title: 不揮発性メモリおよびその製造方法
- Patent Title (English): Non-volatile memory and manufacturing method thereof
- Patent Title (中): 非易失性存储器及其制造方法
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Application No.: PCT/JP2003/004066Application Date: 2003-03-31
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Publication No.: WO2003085740A1Publication Date: 2003-10-16
- Inventor: 田中 英行 , 森本 廉
- Applicant: 松下電器産業株式会社 , 田中 英行 , 森本 廉
- Applicant Address: 〒571-8501 大阪府 門真市 大字門真1006番地 Osaka JP
- Assignee: 松下電器産業株式会社,田中 英行,森本 廉
- Current Assignee: 松下電器産業株式会社,田中 英行,森本 廉
- Current Assignee Address: 〒571-8501 大阪府 門真市 大字門真1006番地 Osaka JP
- Agency: 三枝 英二
- Priority: JP2002-106167 20020409
- Main IPC: H01L27/10
- IPC: H01L27/10
Abstract:
表裏面を貫通する第1の電極(18)を有する絶縁基板(11)と、絶縁基板(11)の一方面側に形成された第2の電極(13)と、第1の電極(18)と第2の電極(13)との間に挟持され、第1の電極(18)および第2の電極(13)間に電気的パルスを印加することにより抵抗値が変化する記録層(12)とを備え、絶縁基板(11)は、有機誘電体薄膜(112)と、有機誘電体薄膜(112)よりも厚みが小さい無機誘電体層(111)との積層構造を備えており、無機誘電体層(111)が形成された側に記録層(12)が形成されている不揮発性メモリである。この不揮発性メモリによれば、省電力化を図りつつ、データの書き換え可能回数を増大することができる。
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IPC分类: