本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统 从辐射源到物体平面的方向具有光强度; 第一光学部件，其至少包括具有多个光栅元件的第一光学元件，其中所述第一光学元件布置在所述辐射源与所述物平面之间的所述光束路径中; 其特征在于，提供用于调节<= 157nm波长的光强度的装置，其被设置在从辐射源到辐射源与第一光学元件之间的物平面的光路中。