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    BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINER VORRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER LICHTINTENSITÄT
    1.
    发明申请
    BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINER VORRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER LICHTINTENSITÄT 审中-公开
    与设备用于设置光强照明系统

    公开(公告)号：WO2004034146A2

    公开(公告)日：2004-04-22

    申请号：PCT/EP2003/009370

    申请日：2003-08-23

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  ANTONI, Martin ,  MELZER, Frank ,  WANGLER, Johannes ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Joachim ,  MAUL, Manfred ,  WEISS, Markus

    Inventor： SINGER, Wolfgang ,  ANTONI, Martin ,  MELZER, Frank ,  WANGLER, Johannes ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Joachim ,  MAUL, Manfred ,  WEISS, Markus

    IPC: G03F

    CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/7085

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie mit Wellenlängen ≤ 157 nm, insbesondere für die EUV-Lithographie zur Ausleuchtung einer Objektebene umfassend eine Strahlungsquelle, die ein Bündel von Lichtstrahlen zur Verfügung stellt, wobei das Bündel von Lichtstrahlen das Beleuchtungssystem in einem Strahlengang in einer Richtung von der Strahlungsquelle zur Objektebene durchläuft und eine Lichtintensität aufweist; einer ersten optischen Komponente, die mindestens ein erstes optisches Element mit einer Vielzahl von Rasterelementen umfasst, wobei das erste optische Element im Strahlengang zwischen der Strahlungsquelle und der Objektebene angeordnet ist; dadurch gekennzeichnet, dass eine Vorrichtung zur Einstellung der Lichtintensität für Wellenlängen ≤ 157 nm vorgesehen ist, die im Strahlengang von der Strahlungsquelle zur Objektebene zwischen der Strahlungsquelle und dem ersten optischen Element angeordnet ist.

    Abstract translation: 本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统 穿过辐射源到物体面并具有光强度的方向; 一个第一光学部件，其至少包括具有多个格子体，其中，所述第一光学元件被布置在所述辐射源和所述物平面之间的光路中的第一光学元件; 其特征在于，一个装置用于调整波长的光强度<157纳米设置=设置在从辐射源到辐射源和所述第一光学元件之间的物体面的光束路径。

    OPTISCHES TEILSYSTEM INSBESONDERE FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM IN MINDESTENS ZWEI STELLUNGEN VERBRINGBAREN OPTISCHEN ELEMENT
    3.
    发明申请
    OPTISCHES TEILSYSTEM INSBESONDERE FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT MINDESTENS EINEM IN MINDESTENS ZWEI STELLUNGEN VERBRINGBAREN OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
    光学子系统尤其是具有至少一个在至少两个位置VERBRINGBAREN光学部件的投射曝光系统，

    公开(公告)号：WO2004021085A1

    公开(公告)日：2004-03-11

    申请号：PCT/EP2003/005387

    申请日：2003-05-23

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Joachim ,  WEISS, Markus

    Inventor： SINGER, Wolfgang ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Joachim ,  WEISS, Markus

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G02B27/0006 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70975

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Teilsystem, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem Strahlbüschel (4), das das optische Teilsystem durchläuft mindestens einem optischen Element, auf das die Strahlen des Strahlbüschels (4) in einem ersten Nutzbereich (12, 108.1, 152, 208.1, 308.1) auftreffen, Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element mindestens einen weiteren Nutzbereich (14, 108.2, 154, 208.1, 308.1) aufweist und Einrichtungen zum Verbringen des optischen Elementes in mindestens zwei Stellungen, eine erste Stellung und eine (weitere) Stellung(en) wobei das Strahbüschel in der ersten Stellung im ersten Nutzbereich (12, 152, 108.1, 208.1, 308.1) und in der zweiten (weiteren) Stellung in einem zweiten (weiteren) Nutzbereich (14, 154, 108.2, 208.2, 308.2) auf die Oberfläche des optischen Elementes auftrifft.

    Abstract translation: 本发明涉及的光学子系统，尤其是用于投射曝光系统的用于微光刻与光束（4），其通过光学子系统经过至少一个光学元件在其上的光束（4）在第一使用区域（光线12，108.1，152 ，208.1，308.1）入射，本发明的特征在于，所述光学元件具有至少一个额外的有效载荷（14，108.2，154，208.1，308.1）的装置，以及用于使该光学元件在至少两个位置，一个第一位置和一个 （其他）的位置（一个或多个），其中所述Strahbüschel在第一有效载荷中的第一位置（12，152，108.1，208.1，308.1）和（在第二（外）位置移动到第二（另一）有效载荷14，154，108.2， 208.2，308.2）撞击在光学元件的表面上。

    MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    4.
    发明申请
    MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    微型投影曝光装置

    公开(公告)号：WO2006029796A2

    公开(公告)日：2006-03-23

    申请号：PCT/EP2005/009804

    申请日：2005-09-13

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  BROTSACK, Markus ,  DEGÜNTHER, Markus ,  ULRICH, Wilhelm ,  WIETZORREK, Joachim ,  WANGLER, Johannes ,  FELDMANN, Heiko ,  ZEILER, Andreas

    Inventor： BROTSACK, Markus ,  DEGÜNTHER, Markus ,  ULRICH, Wilhelm ,  WIETZORREK, Joachim ,  WANGLER, Johannes ,  FELDMANN, Heiko ,  ZEILER, Andreas

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70191

    Abstract: An illumination system (12) for a microlithographic pro­jection exposure apparatus (10) comprises a masking de­vice (36) and a masking objective (38; 138; 238) which projects the masking device (36) onto an image plane (18). The illumination system further includes an optical correction element (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) having a surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) that is either aspherically shaped or supports diffractive struc­tures that have at least substantially the effect of an aspherical surface. This surface is arranged at least ap­proximately in a field plane (40; 140) which precedes the image plane (18) of the masking objective The aspheri­cally acting surface is designed such that a principal ray distribution generated by the illumination system (12; 112; 212) in the image plane matches a principal ray distribution required by a projection objective (16).

    Abstract translation: 一种用于微光刻曝光装置（10）的照明系统（12）包括掩蔽装置（36）和掩蔽物镜（38; 138; 238），掩蔽物镜（38; 138; 238） （36）到图像平面（18）上。 照明系统还包括具有非球面形状或支撑衍射的表面（48; 44; 44'; 148a，148b）的光学校正元件（46; 34'; 146a，146b; 242; 242a，242b，242c） 结构和害羞;至少基本上具有非球面表面效果的结构。 该表面至少被设置成大致在掩蔽物镜的像平面（18）之前的场平面（40; 140）中。非球面和反射作用表面被设计成使得由照明系统产生的主光线分布（ 12; 112; 212）与投影物镜（16）所需的主光线​​分布相匹配。

    MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    7.
    发明申请
    MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    微波投影曝光装置

    公开(公告)号：WO2006029796A3

    公开(公告)日：2006-08-03

    申请号：PCT/EP2005009804

    申请日：2005-09-13

    Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  BROTSACK MARKUS ,  DEGUENTHER MARKUS ,  ULRICH WILHELM ,  WIETZORREK JOACHIM ,  WANGLER JOHANNES ,  FELDMANN HEIKO ,  ZEILER ANDREAS

    Inventor： BROTSACK MARKUS ,  DEGUENTHER MARKUS ,  ULRICH WILHELM ,  WIETZORREK JOACHIM ,  WANGLER JOHANNES ,  FELDMANN HEIKO ,  ZEILER ANDREAS

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70191

    Abstract: An illumination system (12) for a microlithographic pro­jection exposure apparatus (10) comprises a masking de­vice (36) and a masking objective (38; 138; 238) which projects the masking device (36) onto an image plane (18). The illumination system further includes an optical correction element (46; 34'; 146a, 146b; 242; 242a, 242b, 242c) having a surface (48; 44; 44'; 148a, 148b) that is either aspherically shaped or supports diffractive struc­tures that have at least substantially the effect of an aspherical surface. This surface is arranged at least ap­proximately in a field plane (40; 140) which precedes the image plane (18) of the masking objective The aspheri­cally acting surface is designed such that a principal ray distribution generated by the illumination system (12; 112; 212) in the image plane matches a principal ray distribution required by a projection objective (16).

    Abstract translation: 用于微光刻投影曝光装置（10）的照明系统（12）包括将掩模装置（36）投影到图像平面（18）上的掩蔽装置（36）和掩蔽物镜（38; 138; 238）。 所述照明系统还包括具有表面（48; 44; 44'; 148a，148b）的光学校正元件（46; 34'; 146a，146b; 242; 242a，242b，242c），所述表面是非球面形或支撑衍射 具有至少基本上非球面表面效果的结构。 该表面至少大致布置在掩模对象的图像平面（18）之前的场平面（40; 140）中。非球面作用表面被设计成使得由照明系统（12; 112; 在图像平面中匹配投影物镜（16）所需的主光线​​分布。

    AN ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
    9.
    发明申请
    AN ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
    用于微结构的照明系统

    公开(公告)号：WO2005015314A2

    公开(公告)日：2005-02-17

    申请号：PCT/EP2004/003854

    申请日：2004-04-13

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  WIETZORREK, Joachim ,  HAINZ, Joachim ,  WEIRAUCH, Gabriele ,  MAUL, Manfred

    Inventor： SINGER, Wolfgang ,  WIETZORREK, Joachim ,  HAINZ, Joachim ,  WEIRAUCH, Gabriele ,  MAUL, Manfred

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B17/0647 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06

    Abstract: The present invention relates to an illumination system for microlithography, especially for wavelengths ≤ 193 nm, especially preferably for EUV lithography for illuminating a field in a field plane with at least one optical integrator which splits up a light bundle emitted by a light source into a plurality of light channels each having a light intensity, characterized in that a filter is provided in the light path from the light source to the field plane, with the filter comprising filter elements which are configured in such a way that the light intensity of at least one light channel is reduced in the light path after the filter element.

    Abstract translation: 本发明涉及用于微光刻的照明系统，特别是对于<= 193nm的波长，特别优选用于用至少一个光学积分器照射场平面中的场的EUV光刻，所述光学积分器将由光源发射的光束分成 多个光通道各自具有光强度，其特征在于，在从光源到场平面的光路中提供滤光器，滤光器包括滤光元件，其以如下方式配置，使得光 在过滤元件之后的光路中减少至少一个光通道。

    KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN
    10.
    发明申请
    KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开

    公开(公告)号：WO2003014833A3

    公开(公告)日：2003-02-20

    申请号：PCT/EP2002/008193

    申请日：2002-07-23

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SINGER, Wolfgang ,  EGLE, Wilhelm ,  WEISS, Markus ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Joachim ,  WANGLER, Johannes ,  MELZER, Frank

    Inventor： SINGER, Wolfgang ,  EGLE, Wilhelm ,  WEISS, Markus ,  HAINZ, Joachim ,  WIETZORREK, Joachim ,  WANGLER, Johannes ,  MELZER, Frank

    IPC: G03F7/20

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.

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