L'invention concerne un procédé d'analyse d'un circuit intégré. Le procédé comporte, pour une pluralité de points ô la surface du circuit intégré : - une étape d'application (102) d'un rayonnement laser, en un point de la surface du circuit intégré : une étape (106) d'excitation du circuit ; une étape (108) de recueil de la réponse du circuit ô l'excitation ; une étape (114) de calcul du temps de propagation séparant l'instant d'excitation du circuit de l'instant de recueil de la réponse ; et une étape (116) de création d'une image du circuit intégré illustrant une valeur représentative du temps de propagation pour chaque point d'application du rayonnement laser. L'invention concerne également une installation d'analyse d'un circuit intégré.