Invention Application
- Patent Title: グラフトパターン形成方法、それにより得られたグラフトパターン材料及びそれを用いたリソグラフィ方法
- Patent Title (English): Method of forming graft pattern, graft pattern material obtained thereby, and lithographic process using the same
- Patent Title (中): 形成格子图案的方法,获得的图案材料和使用其的平版印刷方法
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Application No.: PCT/JP2006/309169Application Date: 2006-05-02
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Publication No.: WO2006118305A1Publication Date: 2006-11-09
- Inventor: 川村 浩一 , 若田 裕一
- Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 川村 浩一 , 若田 裕一
- Applicant Address: 〒2500123 神奈川県南足柄市中沼210番地 Kanagawa JP
- Assignee: 富士写真フイルム株式会社,川村 浩一,若田 裕一
- Current Assignee: 富士写真フイルム株式会社,川村 浩一,若田 裕一
- Current Assignee Address: 〒2500123 神奈川県南足柄市中沼210番地 Kanagawa JP
- Agency: 中島 淳 et al.
- Priority: JP2005-134365 20050502; JP2005-155497 20050527; JP2005-222225 20050729
- Main IPC: G03F7/004
- IPC: G03F7/004 ; B82B3/00 ; C08F299/00 ; G03F7/26
Abstract:
露光によりラジカルを発生しうる基材上に、撥油・撥水性の官能基と重合性不飽和二重結合とを有する高分子化合物を接触させた後、露光を行い、グラフトポリマーを露光領域にパターン状に生成させる。その際、グラフト重合の基点となる「露光によりラジカルを発生しうる領域」を基材の全面に形成し、パターン露光を行ってもよく、また、基材表面に「露光によりラジカルを発生しうる領域」をパターン状に形成してもよい。水もしくはアルカリ水に可溶であるか、或いは、膨潤可能な高分子化合物を用いた場合、精製工程において未反応の高分子化合物を水、アルカリ水、又は少量の有機溶剤を含む水で除去することができ、環境適合性に優れている。
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IPC分类: