-
公开(公告)号：WO2006118305A1
公开(公告)日：2006-11-09
申请号：PCT/JP2006/309169
申请日：2006-05-02
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 川村 浩一 , 若田 裕一
IPC: G03F7/004 , B82B3/00 , C08F299/00 , G03F7/26
CPC classification number: C08F299/00 , G03F7/0955 , G03F7/165
Abstract: 露光によりラジカルを発生しうる基材上に、撥油・撥水性の官能基と重合性不飽和二重結合とを有する高分子化合物を接触させた後、露光を行い、グラフトポリマーを露光領域にパターン状に生成させる。その際、グラフト重合の基点となる「露光によりラジカルを発生しうる領域」を基材の全面に形成し、パターン露光を行ってもよく、また、基材表面に「露光によりラジカルを発生しうる領域」をパターン状に形成してもよい。水もしくはアルカリ水に可溶であるか、或いは、膨潤可能な高分子化合物を用いた場合、精製工程において未反応の高分子化合物を水、アルカリ水、又は少量の有機溶剤を含む水で除去することができ、環境適合性に優れている。
Abstract translation: 接枝聚合物以曝光区域中的图案形式形成，使具有拒油/疏水官能团和聚合性不饱和双键的高分子化合物与曝光后产生自由基的基材接触，然后进行 曝光 在这种情况下，可以在基材的整个表面上形成“提供暴露于光的基团的能够产生自由基的区域”，接着进行图案化曝光，或者“在曝光后能够产生自由基的区域” 可以以图案方式形成在基材的整个表面上。 当在水或碱性水中使用可溶或可溶胀的高分子化合物时，在纯化步骤中，任何未反应的高分子化合物可以通过水，碱水或含有少量有机溶剂的水除去。 因此，确保了环境兼容性的卓越。
-
公开(公告)号：WO2007058355A1
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/JP2006/323175
申请日：2006-11-21
Applicant: 富士フイルム株式会社 , 安藤 豪 , 和地 直孝 , 川村 浩一 , 若田 裕一
IPC: G03F7/11 , B32B27/36 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0007 , G02F1/133512 , G03F7/0046 , G03F7/11
Abstract: 【解決手段】仮支持体と、重合性基を有するフッ素化合物を含有する表面処理層と、該表面処理層と接触する感光性樹脂層とをこの順に有する感光性転写材料。
Abstract translation: 公开了一种感光性转印材料，其特征在于，以下述顺序包含临时支持体，含有具有聚合性基团的氟化合物的表面处理层和与所述表面处理层接触的感光性树脂层。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2007032215A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/JP2006/317343
申请日：2006-09-01
Applicant: 富士フイルム株式会社 , 南 一守 , 佐々木 義晴 , 若田 裕一 , 高柳 丘
Abstract: 本発明は、４００～４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、レーザ露光時の露光波長のばらつきによる影響を受けず、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物等を提供する。 このため、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を少なくとも含んでなり、該増感剤は、極大吸収波長が３４０～５００ｎｍである増感剤を少なくとも２種含むことを特徴とする感光性組成物等を提供する。
Abstract translation: 公开了对于波长为400〜410nm的曝光光具有近似恒定的灵敏度分布的感光性组合物，几乎不受曝光于激光束时的辐射波长的变化的影响，图案再现性优异，显示出极大的降低的变化 图案结构，并且可以在光环境等下处理。 感光性组合物等至少含有粘合剂，可聚合化合物，光聚合引发剂和增感剂，其中敏化剂包含至少两种具有340-500nm最大吸收波长的敏化剂。
-
公开(公告)号：WO2006085422A1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：PCT/JP2005/023724
申请日：2005-12-26
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 南 一守 , 高島 正伸 , 若田 裕一
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007 , G03F7/001
Abstract: 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該支持体のヘイズ値が５．０％以下であり、かつ該感光層がバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を１つ有する化合物、あるいは分子中に少なくとも重合性基を３つ以上有する化合物を含有し、かつ前記感光層を露光し現像する際の、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない該露光に用いる光の最小エネルギーが０．１～２０ｍＪ／ｃｍ ２ であるパターン形成材料を提供する。
Abstract translation: 一种用于形成图案的材料，其具有支撑体和至少形成在载体上的感光层，其中所述载体的雾度值为5.0％以下，所述感光层包含粘合剂，可聚合化合物和光聚合引发剂，以及 上述可聚合化合物包括其分子中具有一个可聚合基团的化合物或其分子中具有三个或更多个可聚合基团的化合物，并且其中当上述感光层经受曝光和显影时，最小能量 用于上述曝光的光，其不会导致曝光和显影后感光层的曝光部分的厚度的变化为0.1至20mJ / cm 2。
-
公开(公告)号：WO2006059532A1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/JP2005/021589
申请日：2005-11-24
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 高橋 秀知 , 若田 裕一
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0007 , G03F7/027
Abstract: 感光層に含まれるバインダーのＩ／Ｏ値及びガラス転移温度が、ともに一定の数値範囲内であることにより、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、かつレジスト剥離性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。このため、支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３００～０．６５０であり、かつ、酸価１３０～２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることを特徴とするパターン形成材料を提供する。前記バインダーが共重合体を含み、該共重合体が、Ｉ／Ｏ値が０．３５以下の単独重合体を構成する単量体を３０質量％以上含むことが好ましい。また、前記パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供する。
Abstract translation: 本发明提供了一种用于图案形成的材料，其具有包含在感光层中的粘合剂的I / O值和玻璃化转变温度，这两者都落在各自给定的数值范围内，并且由于该结构，具有优异的分辨率 并且同时具有优异的显影性和抗剥离性，以及包括用于图案形成的材料的图案形成装置，以及使用图案形成材料的图案形成方法。 用于图案形成的材料至少包括设置在支撑体上的感光层。 感光层包括粘合剂，可聚合化合物和光聚合引发剂。 粘合剂的I / O值为0.300〜0.650，酸值为130〜250（mg-KOH / g）。 优选地，粘合剂包含共聚物，共聚物包含不少于30质量％的构成I / O值不大于0.35的均聚物的单体。 还提供了一种用于图案形成的装置，包括用于图案形成的材料，以及使用该图案形成材料的图案形成方法。
-
公开(公告)号：WO2006006671A1
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：PCT/JP2005/013048
申请日：2005-07-14
IPC: G03F7/028
CPC classification number: G03F7/031 , G03F7/0045 , G03F7/028 , G03F7/029 , G03F7/0295
Abstract: 本発明は、４００～４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、パターン形成装置、パターン形成方法を提供することを目的とする。 このため、支持体上に少なくとも感光層を有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び増感剤を含み、該感光層が３８０～４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有するとともに、４００ｎｍにおけるパターン形成可能な最小露光量Ｓ ４００ が２００ｍＪ／ｃｍ ２ 以下であり、４１０ｎｍにおけるパターン形成可能な最小露光量Ｓ ４１０ が２００ｍＪ／ｃｍ ２ 以下であり、かつ、０．６＜Ｓ ４００ ／Ｓ ４１０ ＜１．４を満たす感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料を提供する。
Abstract translation: 对于400〜410nm波长的曝光光具有基本上恒定的灵敏度分布的光敏组合物，图案再现性优异，并且相对于图案构造显示出高度抑制的波动，允许在明亮的室内环境中处理; 并且包括感光组合物层，图案形成材料和光敏层压体; 以及图案形成装置和图案形成方法。 提供了一种图案形成材料，其包含支撑体，并且叠加在其上，至少包含粘合剂，可聚合化合物，光聚合引发剂和敏化剂的感光组合物的感光层，在380的光敏层中具有最大的光谱灵敏度 到420nm波长区域，其中能够在400nm处形成图案的最小曝光强度为S
-
公开(公告)号：WO2006100817A1
公开(公告)日：2006-09-28
申请号：PCT/JP2006/300210
申请日：2006-01-11
Applicant: 富士写真フイルム株式会社 , 若田 裕一 , 林 利明 , 高柳 丘
Abstract: 本発明は、高感度な感光層であっても、優れた現像性とタック性とを両立でき、また、感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターン、半導体分野における高精細な永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能なパターン形成材料、並びにパターン形成方法及びパターンを提供する。 このため、エポキシアクリレート化合物の少なくとも１種と、側鎖にアクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤とを少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、該感光層に対し、露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１～８０ｍＪ／ｃｍ ２ であるパターン形成材料を提供する。
Abstract translation: 本发明提供了一种图案形成材料，即使在高感光性感光层中，也可以同时实现优异的显影性和粘合性，可以抑制形成在感光层上的图像的变形，从而可以形成适合于例如 在具有高清晰度和高效率的半导体领域中制造包括封装板和高清晰永久性图案的印刷线路板，图案形成方法和图案。 图案形成材料至少包含使用光敏组合物形成的感光层。 光敏组合物包括至少一种环氧丙烯酸酯化合物，包含至少一种乙烯基共聚物的粘合剂，其侧链上具有丙烯酰基和酸基，可聚合化合物，光聚合引发剂和热交联剂。 当感光层曝光和显影时，曝光中使用的光的最小能量，其不会在曝光之前和曝光之后和显影之后引起其暴露部分中感光层的厚度差异 为0.1〜80mJ / cm 2。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.017 seconds)
