Invention Application
WO2007013598A1 複合酸化物膜およびその製造方法、複合酸化物膜を含む誘電材料、圧電材料、コンデンサ、圧電素子並びに電子機器
审中-公开
复合氧化物膜及其制造方法,包括复合氧化膜,压电材料,电容器,压电元件和电子器件的介电材料。
- Patent Title: 複合酸化物膜およびその製造方法、複合酸化物膜を含む誘電材料、圧電材料、コンデンサ、圧電素子並びに電子機器
- Patent Title (English): Complex oxide film and method for producing same, dielectric material including complex oxide film, piezoelectric material, capacitor, piezoelectric element and electronic device.
- Patent Title (中): 复合氧化物膜及其制造方法,包括复合氧化膜,压电材料,电容器,压电元件和电子器件的介电材料。
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Application No.: PCT/JP2006/314999Application Date: 2006-07-28
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Publication No.: WO2007013598A1Publication Date: 2007-02-01
- Inventor: 白川 彰彦
- Applicant: 昭和電工株式会社 , 白川 彰彦
- Applicant Address: 〒1058518 東京都港区芝大門一丁目13番9号 Tokyo JP
- Assignee: 昭和電工株式会社,白川 彰彦
- Current Assignee: 昭和電工株式会社,白川 彰彦
- Current Assignee Address: 〒1058518 東京都港区芝大門一丁目13番9号 Tokyo JP
- Agency: 大家 邦久 et al.
- Priority: JP2005-221333 20050729
- Main IPC: C01G23/00
- IPC: C01G23/00 ; C01B13/32 ; C25D11/18 ; H01G4/12 ; H01G9/00 ; H01G9/052 ; H01L41/187 ; H01L41/24
Abstract:
本発明は、基体表面に所定の膜厚の第一の金属元素を含む金属酸化物層を形成し、この第一の金属酸化物層に第二の金属のイオンを含む溶液を反応させ、第一および第二の金属元素を含む複合酸化物膜を形成することにより得られる、複雑で大掛かりな設備を用いずに膜厚が任意に制御されうる高い比誘電率の複合酸化物膜及びその製造方法に関する。さらに、この複合酸化物膜を含む誘電材料および圧電材料、さらにこの材料を含むコンデンサ、圧電素子並びにこれらの素子を含む電子機器を提供する。
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IPC分类: