Invention Application
- Patent Title: ディスク原盤露光装置及びその調整方法
- Patent Title (English): Disc master exposure device and method for adjusting same
- Patent Title (中): DISC主曝光装置及其调整方法
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Application No.: PCT/JP2007/055847Application Date: 2007-03-22
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Publication No.: WO2007119475A1Publication Date: 2007-10-25
- Inventor: 勝村 昌広
- Applicant: パイオニア株式会社 , 勝村 昌広
- Applicant Address: 〒1538654 東京都目黒区目黒1丁目4番1号 Tokyo JP
- Assignee: パイオニア株式会社,勝村 昌広
- Current Assignee: パイオニア株式会社,勝村 昌広
- Current Assignee Address: 〒1538654 東京都目黒区目黒1丁目4番1号 Tokyo JP
- Agency: 藤村 元彦
- Priority: JP2006-082925 20060324
- Main IPC: G11B7/26
- IPC: G11B7/26 ; G03F9/00 ; G11B7/0045 ; H01J37/305 ; H01L21/027
Abstract:
ディスク原盤を回転せしめるターンテーブルと、ターンテーブルを少なくとも一方向に水平移動せしめる移動手段と、ターンテーブルに向けて電子ビームを照射してターンテーブル若しくはディスク原盤上にビームスポットを形成するビーム照射手段と、ビームを偏向せしめるビーム偏向手段と、移動手段、ビーム照射手段及びビーム偏向手段を制御する制御手段と、を有するディスク原盤露光装置であって、制御手段は、起動時において移動手段及びビーム偏向手段の少なくとも一方を駆動してビームスポットの原点をターンテーブルの回転中心に一致させるための初期動作をなす初期化手段を含んでいる。これにより、記録用ビームの照射位置の原点とターンテーブルの回転中心とのずれを簡易に調整する装置及び方法が提供される。
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