Invention Application
- Patent Title: 感放射線性組成物及びそれに用いられる低分子量化合物の製造方法
- Patent Title (English): Radiation-sensitive composition and process for producing low-molecular compound for use therein
- Patent Title (中): 辐射敏感性组合物及其制备低分子化合物的方法
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Application No.: PCT/JP2007/066644Application Date: 2007-08-28
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Publication No.: WO2008029673A1Publication Date: 2008-03-13
- Inventor: 松村 信司 , 清水 大輔 , 甲斐 敏之
- Applicant: JSR株式会社 , 松村 信司 , 清水 大輔 , 甲斐 敏之
- Applicant Address: 〒1048410 東京都中央区築地五丁目6番10号 Tokyo JP
- Assignee: JSR株式会社,松村 信司,清水 大輔,甲斐 敏之
- Current Assignee: ＪＳＲ株式会社,松村 信司,清水 大輔,甲斐 敏之
- Current Assignee Address: 〒1048410 東京都中央区築地五丁目６番１０号 Tokyo JP
- Agency: 渡邉 一平
- Priority: JP2006-243563 20060908
- Main IPC: G03F7/004
- IPC: G03F7/004 ; C07C309/12 ; C07C381/12 ; G03F7/039 ; H01L21/027
Abstract:
（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸解離性基、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生基を、一分子中にそれぞれ一以上有する、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）が５００～４０００である低分子量化合物と、（Ｂ）溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。
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