エッチング工程を使用せずに、低抵抗の埋め込み電極を形成し、低抵抗の埋め込み電極をＩＴＯ透明電極に接触させて、ＩＴＯ透明電極の配線抵抗を低減させるとともに、多層基板を通過する光を増大する機能を有する多層基板及び多層基板の製造方法を提供することを目的とする。第１基板と、第２基板と、埋め込み電極と、ＩＴＯ透明電極と、を有する多層基板において、埋め込み電極の材料を導電性材料とし、第２基板を第１基板の上に積層し、埋め込み電極を第２基板に表面を露出する状態で埋め込み、ＩＴＯ透明電極を埋め込み電極が埋め込まれた第２基板の上に積層し、埋め込み電極とＩＴＯ透明電極とを電気的に接触させる。