Invention Application
- Patent Title: カルコゲナイド膜およびその製造方法
- Patent Title (English): Chalcogenide film and method for producing the same
- Patent Title (中): 氯化铝薄膜及其制造方法
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Application No.: PCT/JP2008/067823Application Date: 2008-10-01
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Publication No.: WO2009044769A1Publication Date: 2009-04-09
- Inventor: 菊地 真 , 西岡 浩 , 木村 勲 , 神保 武人 , 鄒 弘綱
- Applicant: 株式会社アルバック , 菊地 真 , 西岡 浩 , 木村 勲 , 神保 武人 , 鄒 弘綱
- Applicant Address: 〒2538543 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500 Kanagawa JP
- Assignee: 株式会社アルバック,菊地 真,西岡 浩,木村 勲,神保 武人,鄒 弘綱
- Current Assignee: 株式会社アルバック,菊地 真,西岡 浩,木村 勲,神保 武人,鄒 弘綱
- Current Assignee Address: 〒2538543 神奈川県茅ヶ崎市萩園２５００ Kanagawa JP
- Agency: 志賀 正武 et al.
- Priority: JP2007-258563 20071002
- Main IPC: H01L45/00
- IPC: H01L45/00 ; H01L27/105
Abstract:
本発明のカルコゲナイド膜は、基板上の絶縁層に形成されたコンタクトホール内にスパッタリングにより成膜されたカルコゲナイド膜であって、前記コンタクトホールの少なくとも底部に下地膜が形成され、この下地膜上かつ前記コンタクトホール内にカルコゲン化合物からなる結晶層を埋め込んでなる。
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