Invention Application
- Patent Title: 不揮発性半導体メモリ素子および半導体装置
- Patent Title (English): Nonvolatile semiconductor memory element and semiconductor device
- Patent Title (中): 非线性半导体存储元件和半导体器件
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Application No.: PCT/JP2009/055942Application Date: 2009-03-25
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Publication No.: WO2009119658A1Publication Date: 2009-10-01
- Inventor: 浅野 正通
- Applicant: 凸版印刷株式会社 , 浅野 正通
- Applicant Address: 〒1108560 東京都台東区台東1丁目5番1号 Tokyo JP
- Assignee: 凸版印刷株式会社,浅野 正通
- Current Assignee: 凸版印刷株式会社,浅野 正通
- Current Assignee Address: 〒1108560 東京都台東区台東1丁目5番1号 Tokyo JP
- Agency: 鈴木 史朗
- Priority: JP2008-079058 20080325
- Main IPC: G11C16/04
- IPC: G11C16/04 ; G11C14/00 ; G11C16/02 ; G11C16/06 ; H01L21/8244 ; H01L21/8247 ; H01L27/105 ; H01L27/11 ; H01L27/115 ; H01L29/788 ; H01L29/792
Abstract:
第1の不揮発性半導体メモリ素子と、前記第1の不揮発性半導体メモリ素子に対し相反する論理状態の情報を記憶する第2の不揮発性半導体メモリ素子と、により1つの情報を記憶する記憶部と、1対となる第1の信号線と第2の信号線を介して前記第1および第2の不揮発性半導体メモリ素子に記憶される情報を読み出すセンス部と、を備える半導体装置であって、前記第1および第2の不揮発性半導体メモリ素子の各々は、半導体基板上に形成されたフローティングゲート、ドレインおよびソースを少なくとも含み、書き込み状態として、前記ソース-ドレイン間に電圧を印加して電荷を前記フローティングゲートに注入して蓄積すると共に、消去状態として、前記フローティングゲートに蓄積された電荷の消去時に、前記半導体基板とドレイン又はソース間に電圧を印加し、バンド-バンド間によるホットキャリアを前記半導体基板中に発生させ、該ホットキャリアにより前記フローティングゲートに蓄積された電荷を消去するように構成されることを特徴とする半導体装置。
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