Invention Application
WO2010037264A1 一种化学机械抛光液
审中-公开
- Patent Title: 一种化学机械抛光液
- Patent Title (English): Chemical-mechanical polishing slurry
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Application No.: PCT/CN2009/001083Application Date: 2009-09-25
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Publication No.: WO2010037264A1Publication Date: 2010-04-08
- Inventor: 宋伟红 , 姚颖
- Applicant: 安集微电子(上海)有限公司 , 宋伟红 , 姚颖
- Applicant Address: 中国上海市浦东张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室, Shanghai 201203 CN
- Assignee: 安集微电子(上海)有限公司,宋伟红,姚颖
- Current Assignee: 安集微电子（上海）有限公司,宋伟红,姚颖
- Current Assignee Address: 中国上海市浦东张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室, Shanghai 201203 CN
- Agency: 上海翰鸿律师事务所
- Priority: CN200810200575.2 20080926
- Main IPC: C09G1/02
- IPC: C09G1/02
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