发明申请
- 专利标题： ペンタセン付加体及びその製造方法
- 专利标题（英）： Pentacene adduct and manufacturing method therefor
- 专利标题（中）： PENTACENE ADDUCT及其制造方法
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申请号： PCT/JP2010/050152申请日： 2010-01-08
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公开(公告)号： WO2010079828A1公开(公告)日： 2010-07-15
- 发明人: 高橋 保 , 菅野 研一郎
- 申请人： 国立大学法人北海道大学 , 高橋 保 , 菅野 研一郎
- 申请人地址： 〒0600808 北海道札幌市北区北8条西5丁目 Hokkaido JP
- 专利权人： 国立大学法人北海道大学,高橋 保,菅野 研一郎
- 当前专利权人： 国立大学法人北海道大学,高橋 保,菅野 研一郎
- 当前专利权人地址： 〒0600808 北海道札幌市北区北８条西５丁目 Hokkaido JP
- 代理机构： 小林 浩
- 优先权： JP2009-003879 20090109; JP2009-028610 20090210
- 主分类号： C07C49/665
- IPC分类号： C07C49/665 ; C07C45/65 ; C07C45/69 ; C07C49/798 ; C07D279/02 ; C07D307/77 ; C07F7/08 ; H01L51/30 ; H01L51/40
摘要：
本発明はペンタセン骨格の端から２番目の環（５，１４位）に選択的に脱離基を付加してなるペンタセン付加体を提供する。該ペンタセン付加体は、アントラセン骨格を含むジヒドロペンタセン化合物に脱離基をＤｉｅｌｓ－Ａｌｄｅｒ付加させることによって製造することができる。あるいは、中央の環に置換基を持つペンタセン誘導体に脱離基をＤｉｅｌｓ－Ａｌｄｅｒ付加させることによって、製造することができる。
