Invention Application
- Patent Title: 固浸レンズを吸着する吸着器を用いる半導体デバイスの観察方法
- Patent Title (English): Suction apparatus, semiconductor device observation device, and semiconductor device observation method
- Patent Title (中): 吸收装置,半导体装置观测装置和半导体装置观测方法
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Application No.: PCT/JP2011/064172Application Date: 2011-06-21
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Publication No.: WO2011162261A1Publication Date: 2011-12-29
- Inventor: 寺田 浩敏 , 松浦 浩幸
- Applicant: 浜松ホトニクス株式会社 , 寺田 浩敏 , 松浦 浩幸
- Applicant Address: 〒4358558 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 Shizuoka JP
- Assignee: 浜松ホトニクス株式会社,寺田 浩敏,松浦 浩幸
- Current Assignee: 浜松ホトニクス株式会社,寺田 浩敏,松浦 浩幸
- Current Assignee Address: 〒4358558 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 Shizuoka JP
- Agency: 長谷川 芳樹
- Priority: JP2010-142868 20100623
- Main IPC: H01L21/66
- IPC: H01L21/66
Abstract:
吸着器10は、半導体デバイスDが形成された半導体ウエハWが配置される第1の面13と、第1の面13の反対側の面である第2の面14とを有し、第1の面13と第2の面14とを貫通する貫通孔15が形成された本体部と、半導体デバイスDからの光が入射される光入射面16と、光入射面16から入射した光が出射される光出射面17とを有し、貫通孔15に嵌合された光透過部と、を備える。そして、第1の面13には、半導体ウエハWを真空吸着して半導体デバイスDを光入射面16に固定するための第1の吸着溝13aが形成されており、第2の面14には、固浸レンズSを真空吸着して光出射面17に固定するための第2の吸着溝14aが形成されている。
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IPC分类: