Invention Application
- Patent Title: 汚濁液噴出装置
- Patent Title (English): Contaminating liquid spray device
- Patent Title (中): 污染液体喷雾装置
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Application No.: PCT/JP2011/058260Application Date: 2011-03-31
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Publication No.: WO2012131992A1Publication Date: 2012-10-04
- Inventor: 中澤 幸次 , 山口 貴裕 , 蛸島 照一朗
- Applicant: ヤマトプロテック株式会社 , 中澤 幸次 , 山口 貴裕 , 蛸島 照一朗
- Applicant Address: 〒1080071 東京都港区白金台5-17-2 Tokyo JP
- Assignee: ヤマトプロテック株式会社,中澤 幸次,山口 貴裕,蛸島 照一朗
- Current Assignee: ヤマトプロテック株式会社,中澤 幸次,山口 貴裕,蛸島 照一朗
- Current Assignee Address: 〒1080071 東京都港区白金台5-17-2 Tokyo JP
- Agency: 特許業務法人東京アルパ特許事務所
- Main IPC: G08B15/02
- IPC: G08B15/02
Abstract:
汚濁液を貯蔵する貯蔵容器2と、起動信号の入力によりガスを発生させるガス発生器8と、ガス発生器8から発生したガスを貯蔵容器2の端部2aに向けて排出するガス排出口9と、貯蔵容器2を収容しガス排出口9から排出されたガスの圧力に耐えうる耐圧容器3と、貯蔵容器2から放出される汚濁液を噴射対象物に噴射する液噴射ノズル7とを備える汚濁液噴出装置1において、貯蔵容器2は、ガス発生器8からのガスの排出に伴う耐圧容器3の圧力上昇により押しつぶされるように構成し、貯蔵容器2の端部には、ガスの圧力を逃がす圧力逃がし部20を設ける。圧力逃がし部20を設けることで、ガスの圧力に対する貯蔵容器2の強度が向上し、貯蔵容器2が破れるのを防止することができる。
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