Invention Application
- Patent Title: 導電パターン形成方法及び光照射またはマイクロ波加熱による導電パターン形成用組成物
- Patent Title (English): Conductive-pattern formation method and composition for forming conductive pattern via light exposure or microwave heating
- Patent Title (中): 导电图案形成方法和组合物通过光照或微波加热形成导电图案
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Application No.: PCT/JP2012/080464Application Date: 2012-11-26
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Publication No.: WO2013077447A1Publication Date: 2013-05-30
- Inventor: 内田 博
- Applicant: 昭和電工株式会社
- Applicant Address: 〒1058518 東京都港区芝大門一丁目13番9号 Tokyo JP
- Assignee: 昭和電工株式会社
- Current Assignee: 昭和電工株式会社
- Current Assignee Address: 〒1058518 東京都港区芝大門一丁目13番9号 Tokyo JP
- Agency: 在原 元司
- Priority: JP2011-256509 20111124
- Main IPC: H05K3/12
- IPC: H05K3/12 ; C09D5/24 ; C09D7/12 ; C09D171/02 ; C09D201/00 ; H01B1/00 ; H01B1/22 ; H01B13/00
Abstract:
【課題】導電パターンの導電率を向上させることができる導電パターン形成方法及び光照射またはマイクロ波加熱による導電パターン形成用組成物を提供する。 【解決手段】表面の全部または一部に酸化銅の薄膜が形成された銅粒子と厚さが10~200nmの板状の銀粒子とバインダー樹脂とを含む導電パターン形成用組成物を調製し、この導電パターン形成用組成物により、基板上に任意形状の印刷パターンを形成し、この印刷パターンに光照射またはマイクロ波加熱を行って銅と銀との焼結体を生成し、導電膜を形成する。
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