本発明の課題は、無電解NiPめっきにより平滑なめっき皮膜の表面を得ることができ、酸耐食性も悪化することがないハードディスク用基板を得ることである。　本発明のハードディスク用基板の製造方法は、平滑化作用を有する添加剤を含有する第１の無電解NiPめっき浴に基板を浸漬して該基板の表面に、該表面よりも平均表面粗さが小さい前記無電解NiPめっき皮膜の下層を形成する第１のめっき工程と、第1のめっき工程により前記無電解NiPめっき皮膜の下層が形成された基板を、第2の無電解NiPめっき浴に浸漬して酸耐食性を有する無電解NiPめっき皮膜の上層を形成する第２のめっき工程とを含み、第１のめっき工程から第２のめっき工程に移行するまでの間、下層の大気への接触を抑制する。