本発明は、高信頼性かつ低容量を充分に実現する薄膜トランジスタを有するアクティブマトリックス基板と、該アクティブマトリックス基板をフォトマスクの使用枚数を増やすことなく製造するアクティブマトリックス基板の製造方法と、該アクティブマトリックス基板を備える表示装置と、該表示装置の製造方法とを提供する。本発明のアクティブマトリックス基板は、酸化物半導体からなる半導体層を含む薄膜トランジスタを有するアクティブマトリックス基板であって、該アクティブマトリックス基板は、酸化物半導体からなる半導体層と、エッチングストッパー層と、スピンオングラス材料から構成される層間絶縁膜とを少なくとも有し、基板主面を平面視したときに、該エッチングストッパー層は該半導体層の少なくとも一部を覆い、該層間絶縁膜は該エッチングストッパー層の少なくとも一部を覆うものである。