Invention Application
- Patent Title: 阻变存储器及其制备方法
- Patent Title (English): Resistive random access memory and preparation method thereof
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Application No.: PCT/CN2013/079020Application Date: 2013-07-08
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Publication No.: WO2014094417A1Publication Date: 2014-06-26
- Inventor: 蔡一茂 , 殷士辉 , 黄如 , 方亦陈
- Applicant: 北京大学
- Applicant Address: 中国北京市海淀区颐和园路5号, Beijing 100871 CN
- Assignee: 北京大学
- Current Assignee: 北京大学
- Current Assignee Address: 中国北京市海淀区颐和园路5号, Beijing 100871 CN
- Agency: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)
- Priority: CN201210555373.6 20121219
- Main IPC: H01L45/00
- IPC: H01L45/00
Abstract:
公开了一种阻变存储器及其制备方法。阻变存储器包括:底电极(11)、阻变层(12)、顶电极(14),阻变层(12)位于底电极(11)之上;顶电极(14)位于阻变层(12)之上;底电极(11)之上设置有导电突起(13),导电突起(13)嵌在阻变层(12)内,且导电突起(13)顶部宽度小于底部宽度。还公开了一种阻变存储器的制备方法。这里所提供的阻变存储器及其制备方法,通过在底电极上设置导电突起,可以产生"避雷针"效应,使得阻变层中电场集中分布在导电突起的附近,极大的增加了导电细丝在导电突起处生成的概率,使导电细丝的生成不再是随机的,确保了阻变存储器中各个参数的稳定性,从而大大提高了阻变存储器工作的可靠性和稳定性。
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