Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Spiegelsubstrat- Rohlings aus Titan-dotiertem Kieselglas für die EUV-Lithographie mit einer Dicke von mindestens 40 Millimetern mit den folgenden Verfahrensschritten vorgeschlagen: • a) Planschleifen der Oberfläche des Rohlings • b) Ermittlung von Daten zu Defekten in einer Oberflächenschicht des Rohlings, wobei bl) Licht an einer Stelle der planen Oberfläche des Rohlings in einem vorbestimmten Einstrahlwinkel a kleiner 90° in den Rohling eindringt, b2) das Licht an einem Defekt im Rohling gestreut und b3) das Streulicht in einem Abstand x zur Eindringstelle an der Oberfläche des Rohlings von einem senkrecht darüber angeordneten Lichterfassungselement detektiert wird; • c) Bestimmung der Position des Defektes in der Oberflächenschicht anhand der beim Verfahrensschritt b) erhaltenen Daten • d) Teilweise oder vollständiges Entfernen der Oberflächenschicht unter Berücksichtigung der Positionsbestimmung gemäß Verfahrensschritt c) und unter Ausbildung des Spiegelsubstrat-Rohlings.