利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明申请
WO2015151346A1 ポリオルガノシロキサン、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 审中-公开
聚碳酰氧基硅烷，聚碳酸酯 - 聚硅氧烷共聚物及其生产方法

  • 专利标题： ポリオルガノシロキサン、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法
  • 专利标题（英）： Polyorganosiloxane, polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, and production method therefor
  • 专利标题（中）： 聚碳酰氧基硅烷，聚碳酸酯 - 聚硅氧烷共聚物及其生产方法
  • 申请号： PCT/JP2014/083055
    申请日： 2014-12-12
  • 公开(公告)号： WO2015151346A1
    公开(公告)日： 2015-10-08
  • 发明人: 石川　康弘 , 阿部　智子
  • 申请人： 出光興産株式会社
  • 申请人地址： 〒1008321 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 Tokyo JP
  • 专利权人： 出光興産株式会社
  • 当前专利权人： 出光興産株式会社
  • 当前专利权人地址： 〒1008321 東京都千代田区丸の内三丁目１番１号 Tokyo JP
  • 代理机构： 大谷 保
  • 优先权： JP2014-073411 20140331
  • 主分类号： C08G77/16
  • IPC分类号： C08G77/16 ;  C08G64/18 ;  C08G77/24 ;  C08G77/448 ;  C08G77/60
ポリオルガノシロキサン、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法
摘要：
　ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、２．５≦ｌｏｇ（Ｍ）≦３．１の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して０～１０％である、ポリオルガノシロキサン。
摘要（中）：

提供一种聚有机硅氧烷，其中将dw / dlog（M）值在2.5≤log（M）≤3.1的范围内积分的值相对于dw / dlog的积分值为0-10％ 在使用聚苯乙烯作为转化的基础的凝胶渗透色谱法测定得到的微分分子量分布曲线中，log（M）的整个范围的（M）值，横轴为对数值log ），纵轴是将浓度因子（w）除以分子量的对数值log（M）的结果的dw / dlog（M）。

0/0