发明申请
- 专利标题： ジフェニルスルフィド誘導体の製造方法及び製造中間体
- 专利标题（英）： Manufacturing method and manufacturing intermediate for diphenylsulfide derivative
- 专利标题（中）： 二苯并呋喃衍生物的制备方法和制备中间体
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申请号： PCT/JP2015/002985申请日： 2015-06-15
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公开(公告)号： WO2015194157A1公开(公告)日： 2015-12-23
- 发明人: 後藤 崇之 , 佐藤 正則 , 牛渡 誠 , 阿部 康則 , 坂本 信敬 , 三好 啓太
- 申请人： 杏林製薬株式会社
- 申请人地址： 〒1018311 東京都千代田区神田駿河台四丁目6番地 Tokyo JP
- 专利权人： 杏林製薬株式会社
- 当前专利权人： 杏林製薬株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1018311 東京都千代田区神田駿河台四丁目６番地 Tokyo JP
- 代理机构： 水野 勝文
- 优先权： JP2014-123826 20140616
- 主分类号： C07C319/28
- IPC分类号： C07C319/28 ; C07C319/20 ; C07C323/32 ; C07C323/63 ; C07F9/09 ; C07B57/00 ; C07B61/00
摘要：
【課題】 ジフェニルスルフィド誘導体の新規な製造方法に関する技術を提供する。 【解決手段】 一般式（６）で表される化合物を、光学分割カラムによる光学分割に供し、分離される、一般式（７）で表される化合物及び／または一般式（８）で表される化合物を回収する光学分割方法。及び当該光学分割方法を含む化合物の製造方法。
