Invention Application
- Patent Title: 공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법
- Patent Title (English): Substrate processing device arranged inside process chamber and operating method therefor
- Patent Title (中): 基板处理装置安装在工艺室内及其工作方法中
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Application No.: PCT/KR2016/006163Application Date: 2016-06-10
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Publication No.: WO2016204452A1Publication Date: 2016-12-22
- Inventor: 김기범 , 김수웅 , 사승엽 , 우람 , 이명진 , 정석철 , 최종성 , 허호범
- Applicant: 주성엔지니어링(주)
- Applicant Address: 12773 경기도 광주시 오포읍 오포로 240, Gyeonggi-do KR
- Assignee: 주성엔지니어링(주)
- Current Assignee: 주성엔지니어링(주)
- Current Assignee Address: 12773 경기도 광주시 오포읍 오포로 240, Gyeonggi-do KR
- Agency: 박영복
- Priority: KR10-2015-0084765 20150616
- Main IPC: H01L21/683
- IPC: H01L21/683 ; H01L21/67
Abstract:
기판 처리장치의 일 실시예는, 자전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 배치되고, 상면에 기판이 안착되며, 상기 디스크가 자전함에 따라 자전 및 상기 디스크의 중심을 축으로 공전하는 적어도 하나의 서셉터; 상기 서셉터의 하부에 결합하고, 중심이 상기 서셉터의 중심과 일치하도록 배치되는 금속링; 상기 디스크의 하부에 배치되고, 적어도 일부에 상기 금속링의 외주면과 측방향으로 대향되는 내주면이 형성되는 지지블록을 포함할 수 있다.
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IPC分类:
