Invention Application
- Patent Title: 真空反作用力焊接方法及其装置
- Patent Title (English): Vacuum reacting force welding method and device thereof
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Application No.: PCT/CN2015/090464Application Date: 2015-09-23
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Publication No.: WO2017049511A1Publication Date: 2017-03-30
- Inventor: 苏佳槟 , 秦明超
- Applicant: 广州硅能照明有限公司
- Applicant Address: 中国广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开源大道11号A4栋二层, Guangdong 510000 CN
- Assignee: 广州硅能照明有限公司
- Current Assignee: 广州硅能照明有限公司
- Current Assignee Address: 中国广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开源大道11号A4栋二层, Guangdong 510000 CN
- Agency: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙)
- Main IPC: B23K1/008
- IPC: B23K1/008 ; B23K3/00
Abstract:
一种真空反作用力焊接方法,包括如下步骤:芯片通过焊料固晶于基板形成半成品(16);半成品置入真空共晶炉的真空共晶腔(6)内;对真空共晶腔进行抽真空;预热真空共晶腔,使温度缓慢上升;迅速加热真空共晶腔,使焊料融化;对真空共晶腔施加作用力,使真空共晶腔下降后加速上升;对真空共晶腔外部进行强制制冷,内部通入保护气体;在焊料固化后解除真空共晶腔的真空状态。本发明还公开了一种采用所述真空反作用力焊接方法的焊接装置。该焊接方法和装置能在避免芯片损伤的前提下,对芯片施加加速度反作用力,能有效降低焊点空洞率。
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