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WO2017097601A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SOLCHEN SYSTEMS 审中-公开
微型投影系统的照明系统和操作这种系统的方法

BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SOLCHEN SYSTEMS
Abstract:
Ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage (10) hat eine Bildebene (66), in der eine Maske (14) anordenbar ist, und eine erste Objektebene (OP1 ), die zu der Bildebene (66) optisch konjugiert ist. Eine erste Beleuchtungsoptik (42, 50, 52, 58) beleuchtet die erste Objektebene so mit erstem Projektionslicht (301 ), dass das erste Projektionslicht in der Bildebene eine erste Beleuchtungswinkelverteilung hat. Eine zweite Beleuchtungsoptik (42', 51, 70, 72) beleuchtet eine zweite Objektebene, die ebenfalls zu der Bildebene (66) optisch konjugiert ist, so mit zweitem Projektionslicht (302), dass das zweite Projektionslicht in der Bildebene eine zweite Beleuchtungswinkelverteilung hat, die sich von der ersten Beleuchtungswinkelverteilung unterscheidet. Ein optischer Integrator (52), ist ausschließlich im Lichtweg des ersten Projektionslichts (301 ) angeordnet.
Abstract(Chinese):

具有

微光刻投射系统（10）的图像平面（66），其中掩模（14）可以被布置的照明系统和第一物体面（OP1），它是共轭的像平面（66），其光学 是。 第一照明光学系统（42,50,52,58）用第一投影光（301）照射第一物体平面，使得第一投影光在像平面中具有第一照射角度分布。 第二照明光学系统（42”，51，70，72）照射的第二对象平面，其是共轭也与图像平面（66）在视觉上，所以与第二投影光（302）在图像平面上的第二投影光具有第二照明角度分布， 这不同于第一照明角度分布。 一个光学积分器（52）专门设置在第一投影光（301）的光路中。

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