公开(公告)号：WO2019170703A3

公开(公告)日：2019-09-12

申请号：PCT/EP2019/055498

申请日：2019-03-06

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  CARL ZEISS AG ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  HÖLLER, Frank ,  ZOTT, Andy

Inventor： DAVYDENKO, Vladimir ,  HÖLLER, Frank ,  ZOTT, Andy

IPC: G01S17/32 ,  G01S17/42 ,  G01S17/89 ,  G01S7/481

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur scannenden Abstandsermittlung eines Objekts, mit einer Lichtquelle (110, 210, 310, 610) zum Aussenden eines optischen Signals (111, 211, 311) mit zeitlich variierender Frequenz, einer Auswerteeinrichtung zur Ermittlung eines Abstandes des Objekts (140, 240, 340) auf Basis eines aus dem Signal hervorgegangenen, an dem Objekt reflektierten Messsignals (121, 221, 321) und eines nicht an dem Objekt reflektierten Referenzsignals (122, 222, 322), und einem dispersiven Element (131, 231, 331, 620), welches eine frequenzselektive Winkelverteilung des Messsignals (121, 221, 321) bewirkt, wobei hierdurch erzeugte Teilsignale unter voneinander verschiedenen Winkeln zu dem Objekt (140, 240, 340) gelenkt werden.

公开(公告)号：WO2019145242A1

公开(公告)日：2019-08-01

申请号：PCT/EP2019/051320

申请日：2019-01-21

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  DAVYDENKO, Vladimir

Inventor： DAVYDENKO, Vladimir

IPC: G01S17/32 ,  G01S17/58 ,  G01S7/491

CPC classification number: G01S17/325 ,  G01S7/4917 ,  G01S17/58

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Ermitteln eines Abstandes eines bewegten Objekts, sowie eine Lichtquelle zum Aussenden eines optischen Signals mit zeitlich variierender Frequenz, insbesondere zur Verwendung in einer solchen Vorrichtung. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist auf: eine Lichtquelle (110) zum Aussenden eines optischen Signals mit zeitlich variierender Frequenz, wobei die Lichtquelle einen Laser (201, 251), einen ersten WGM-Resonator (210, 260), welcher an den Laser optisch gekoppelt ist, und einen zweiten WGM-Resonator (220, 270), welcher an den Laser optisch gekoppelt ist, aufweist, einen Detektor (160) zur Erzeugung eines Detektorsignals aus einer Überlagerung eines ersten Teilsignals (111) und eines zweiten Teilsignals (121), wobei das erste Teilsignal und das zweite Teilsignal durch Zerlegung des von der Lichtquelle (110) ausgesandten optischen Signals hervorgegangen sind, wobei das erste Teilsignal ohne vorherige Reflexion an dem Objekt zum Detektor gelangt und wobei das zweite Teilsignal nach Reflexion an dem Objekt zum Detektor (160) gelangt, wobei das Detektorsignal für die Differenzfrequenz zwischen der Frequenz des zweiten Teilsignals und der Frequenz des ersten Teilsignals charakteristisch ist, und eine Auswerteeinrichtung zur Ermittlung eines Abstandes des Objekts auf Basis dieser Differenzfrequenz.

公开(公告)号：WO2015124270A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/EP2015/000273

申请日：2015-02-10

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  KORB, Thomas ,  EISENMENGER, Johannes

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116

Abstract: Ein Beleuchtungssystem einer lithographischen Projektionsbelichtungsanlage (12) umfasst eine Lichtquelle (LS; LS 1, LS 2), die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen (42-1 bis 42-3; 42-1, 42-2, 52-1, 52-2) eingerichtet ist. Ferner umfasst das Beleuchtungssystem ein Array (28) von optischen Elementen (32), die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine Steuereinrichtung (34) steuert die optischen Elemente (32) so an, dass sie nur zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen ihre Schaltstellung ändern und während der Lichtpulse ihre Schaltstellung beibehalten.

Abstract translation: 光刻投射曝光设备（12）的一种照明系统，包括光源（LS; LS 1，LS 2）（用于产生光脉冲的42-1到42-3的序列; 52-1 42-1，42-2，52 -2）被设置。 此外，该照明系统包括光学元件（32），其被两个切换位置之间切换的数字的阵列（28）。 控制器（34）控制所述光学元件（32）以这样的方式使得它们仅改变两个连续的光脉冲和光脉冲之间它们的开关位置，同时保持他们的切换位置。

公开(公告)号：WO2017108448A1

公开(公告)日：2017-06-29

申请号：PCT/EP2016/080406

申请日：2016-12-09

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DAVYDENKO, Vladimir

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70075

Abstract: An illumination system of a microlithographic apparatus has an optical axis (OA) and comprises an optical integrator (52) and a scattering structure (51). The scattering structure is arranged, along a light propagation direction of the system, in front of the optical integrator and comprises a first array of first optical raster elements (76a) and a second array of second optical raster elements (76b). The first array and the second array are spaced apart from each other along the optical axis (OA). This ensures that the light impinging on the optical integrator has an optimum divergence irrespective of the angular distribution of the light impinging on the scattering structure.

Abstract translation: 微光刻设备的照明系统具有光轴（OA）并且包括光学积分器（52）和散射结构（51）。 散射结构沿着系统的光传播方向布置在光学积分器的前方并且包括第一光栅元件阵列（76a）和第二阵列第二光栅元件（76b）。 第一阵列和第二阵列沿着光轴（OA）彼此间隔开。 这确保了入射到光学积分器上的光具有最佳发散性，而不管入射到散射结构上的光的角度分布如何。

公开(公告)号：WO2017097601A1

公开(公告)日：2017-06-15

申请号：PCT/EP2016/078695

申请日：2016-11-24

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  JÜRGENS, Dirk ,  KORB, Thomas

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70208

Abstract: Ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage (10) hat eine Bildebene (66), in der eine Maske (14) anordenbar ist, und eine erste Objektebene (OP1 ), die zu der Bildebene (66) optisch konjugiert ist. Eine erste Beleuchtungsoptik (42, 50, 52, 58) beleuchtet die erste Objektebene so mit erstem Projektionslicht (301 ), dass das erste Projektionslicht in der Bildebene eine erste Beleuchtungswinkelverteilung hat. Eine zweite Beleuchtungsoptik (42', 51, 70, 72) beleuchtet eine zweite Objektebene, die ebenfalls zu der Bildebene (66) optisch konjugiert ist, so mit zweitem Projektionslicht (302), dass das zweite Projektionslicht in der Bildebene eine zweite Beleuchtungswinkelverteilung hat, die sich von der ersten Beleuchtungswinkelverteilung unterscheidet. Ein optischer Integrator (52), ist ausschließlich im Lichtweg des ersten Projektionslichts (301 ) angeordnet.

Abstract translation: 具有

微光刻投射系统（10）的图像平面（66），其中掩模（14）可以被布置的照明系统和第一物体面（OP1），它是共轭的像平面（66），其光学 是。 第一照明光学系统（42,50,52,58）用第一投影光（301）照射第一物体平面，使得第一投影光在像平面中具有第一照射角度分布。 第二照明光学系统（42”，51，70，72）照射的第二对象平面，其是共轭也与图像平面（66）在视觉上，所以与第二投影光（302）在图像平面上的第二投影光具有第二照明角度分布， 这不同于第一照明角度分布。 一个光学积分器（52）专门设置在第一投影光（301）的光路中。

公开(公告)号：WO2019149725A1

公开(公告)日：2019-08-08

申请号：PCT/EP2019/052187

申请日：2019-01-30

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  PATRA, Michael ,  HORN, Jan ,  ZOTT, Andy ,  DAVYDENKO, Vladimir

Inventor： PATRA, Michael ,  HORN, Jan ,  ZOTT, Andy ,  DAVYDENKO, Vladimir

IPC: G01S17/32 ,  G01S7/491

CPC classification number: G01S17/32 ,  G01S7/491 ,  G01S7/4913 ,  G01S7/4917

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Ermitteln eines Abstandes eines bewegten Objekts. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist einen Sender (110) zum Aussenden eines optischen Sendersignals (111), wobei das Sendersignal eine zeitlich variierende Frequenz (ω s (t)) aufweist, einen Detektor (150) zur Erzeugung eines Detektorsignals aus einer Überlagerung eines ersten Teilsignals (121) und eines zweiten Teilsignals (122), wobei das erste Teilsignal (121) und das zweite Teilsignal (122) durch Zerlegung des Sendersignals (111) hervorgegangen sind, wobei das erste Teilsignal (121) ohne vorherige Reflexion an dem Objekt (105) zum Detektor (150) gelangt und wobei das zweite Teilsignal (122) nach Reflexion an dem Objekt (105) zum Detektor (150) gelangt, wobei das Detektorsignal für die Differenzfrequenz (Δω) zwischen der Frequenz des zweiten Teilsignals (122) und der Frequenz des ersten Teilsignals (121) charakteristisch ist, und eine Auswerteeinrichtung (160) auf, welche dazu ausgelegt ist, aus dem zeitlichen Verlauf der Differenzfrequenz (Δω(t)) sowie dem zeitlichen Verlauf der Frequenz (ω s (t)) des Sendersignals selbstkonsistent den zeitlichen Verlauf von Abstand d(t) und Geschwindigkeit v(t) des Objektes zu bestimmen.

公开(公告)号：WO2016180541A1

公开(公告)日：2016-11-17

申请号：PCT/EP2016/000794

申请日：2016-05-13

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DAVYDENKO, Vladimir

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/702

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection apparatus (10) comprises an irradiance adjustment unit (52) that adjusts an irradiance distribution of projection light on a surface (S). The irradiance adjustment unit (52) comprises a spatial light modulator (54a, 54b; 154) having an array of light deflection elements (55) and a light splitter (56a, 56b; 56; 156a) that splits the projection light into modulated light (58a, 58b; 158) that propagates along a modulation light path (59a, 59b; 159) and non-modulated light (60a, 60b; 160a, 160c, 160d) that propagates along a non-modulation light path (63; 163a, 163c, 163d). The spatial light modulator (54a, 54b; 154) is only arranged in the modulation light path (59a, 59b; 159), but not in the non- modulation light path (63; 163a, 163c, 163d). The modulated light (58a, 58b; 158) and the non-modulated light (60a, 60b; 160a, 160c, 160d) superimpose on the surface.

Abstract translation: 微光刻投影装置（10）的照明系统包括调节投影光在表面（S）上的辐照度分布的照度调节单元（52）。 辐照度调节单元（52）包括具有一组光偏转元件（55）和分光器（56a，56b; 56; 156a）的空间光调制器（54a，54b; 154），其将投影光分成调制光 沿着调制光路（59a，59b; 159）和沿着非调制光路（63; 163a）传播的未调制光（60a，60b; 160a，160c，160d）传播的（58a，58b; 158） ，163c，163d）。 空间光调制器（54a，54b; 154）仅布置在调制光路径（59a，59b; 159）中，而不布置在非调制光路径（63; 163a，163c，163d）中。 调制光（58a，58b; 158）和非调制光（60a，60b; 160a，160c，160d）叠加在表面上。

公开(公告)号：WO2015124262A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：PCT/EP2015/000222

申请日：2015-02-05

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： DEGÜNTHER, Markus ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  KORB, Thomas ,  EISENMENGER, Johannes

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70475

Abstract: Ein Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) weist eine Lichtquelle (LS) auf, die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen eingerichtet ist. Im Lichtweg zwischen der Lichtquelle (LS) und einer Zielfläche (38) ist ein Array (28) von optischen Elementen (30) angeordnet, die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine im Lichtweg zwischen dem Array (28) und der Zielfläche (38) angeordnete verstellbare Lichtablenkungsoptik (32) ist dazu eingerichtet, auftreffendes Licht mit unterschiedlichen Ablenkwinkeln abzulenken. Eine Steuereinrichtung (52) steuert die Lichtablenkungsoptik (32) so an, dass eine Änderung der Ablenkwinkel zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen erfolgt.

Abstract translation: 微光刻投射曝光设备（10）的照明系统包括光源（LS），其被设置成产生光脉冲序列。 在光源（LS）和目标表面（38）之间的光路是光学元件（30）布置，其被两个切换位置之间切换的数字的阵列（28）。 甲在阵列（28）和所述目标表面（38）之间的光路布置可调光偏转光学器件（32）适于在不同的偏转角偏转入射光。 控制器（52）控制以这样的方式，在两个连续的光脉冲之间的偏转角的变化进行光偏转光学器件（32）。

公开(公告)号：WO2020064224A1

公开(公告)日：2020-04-02

申请号：PCT/EP2019/072229

申请日：2019-08-20

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  WEIMANN, Claudius

Inventor： DAVYDENKO, Vladimir ,  WEIMANN, Claudius

IPC: G01S7/481 ,  G01S7/491 ,  G01S17/32 ,  G01S17/42 ,  G01S17/93

Abstract: Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Lichtquelle (110, 210) zum simultanen Aussenden einer Mehrzahl von optischen Signalen mit jeweils zeitlich variierender Frequenz, wobei sich diese Signale hinsichtlich des Frequenzbereichs, innerhalb dessen diese zeitliche Variation stattfindet, voneinander unterscheiden, eine Auswerteeinrichtung zur Ermittlung eines Abstandes des Objekts (140, 240) auf Basis von aus den optischen Signalen jeweils hervorgegangenen, an dem Objekt (140, 240) reflektierten Messsignalen (121, 221) und nicht an dem Objekt (140, 240) reflektierten Referenzsignalen (122, 222), und ein dispersives Element (130, 230) auf, welches eine vom jeweiligen Frequenzbereich abhängige Winkelverteilung der zu dem Objekt (140, 240) gelenkten Messsignale (121, 221) bewirkt.

公开(公告)号：WO2020011586A1

公开(公告)日：2020-01-16

申请号：PCT/EP2019/067637

申请日：2019-07-01

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  CARL ZEISS AG ,  DAVYDENKO, Vladimir ,  ZOTT, Andy ,  HÖLLER, Frank ,  HORN, Jan

Inventor： DAVYDENKO, Vladimir ,  ZOTT, Andy ,  HÖLLER, Frank ,  HORN, Jan

IPC: G01S7/481 ,  G01S7/491 ,  G01S17/32 ,  G01S17/42 ,  G01S17/58 ,  G01S17/93

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur scannenden Abstandsermittlung eines Objekts. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Lichtquelle (210, 310) zum Aussenden eines optischen Signals mit zeitlich variierender Frequenz, eine Auswerteeinrichtung zur Ermittlung eines Abstandes des Objekts auf Basis eines aus dem Signal hervorgegangenen, an dem Objekt reflektierten Messsignals und eines nicht an dem Objekt reflektierten Referenzsignals, und ein dispersives Element (230, 334), welches eine frequenzselektive Winkelverteilung des Messsignals bewirkt, wobei hierdurch erzeugte Teilsignale unter voneinander verschiedenen Winkeln zu dem Objekt gelenkt werden auf, wobei die Auswerteeinrichtung weiter zur Ermittlung einer Geschwindigkeit des Objekts auf Basis von jeweils zwei Differenzfrequenz- Bestimmungen zwischen jeweils einem an dem Objekt reflektierten Messsignal und einem nicht an dem Objekt reflektierten Referenzsignal ausgelegt ist, wobei die für diese beiden Differenzfrequenz-Bestimmungen herangezogenen Messsignale sich hinsichtlich der die jeweilige Zeitabhängigkeit ihrer Frequenz beschreibenden Funktion voneinander unterscheiden.