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WO2019016235A1 OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE, VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS SOWIE VERFAHREN ZUM AUSTAUSCHEN EINES MODULS 审中-公开

OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE, VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS SOWIE VERFAHREN ZUM AUSTAUSCHEN EINES MODULS
Abstract:
Optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Modul (202), das dazu ausgebildet ist, einen ersten Teil eines Strahlengangs (214) zu umschließen, einem mit dem ersten Modul (202) verbindbaren zweiten Modul (204), das dazu ausgebildet ist, einen zweiten Teil des Strahlengangs (214) zu umschließen, und einer an dem ersten Modul (202) vorgesehenen Sensoreinrichtung (228), die dazu eingerichtet ist, eine Lage des zweiten Moduls (204) relativ zu dem ersten Modul (202) unabhängig und/oder außerhalb von dem Strahlengang (214) zu erfassen, um das erste Modul (202) und das zweite Modul (204) basierend auf von der Sensoreinrichtung (228) erfassten Messwerten zueinander auszurichten, wobei das erste Modul (202) und/oder das zweite Modul (204) einen Spiegel (212, 222) aufweist.
Abstract(English):

An optical system (200) for a lithography machine (100A, 100B), comprising a first module (202) designed to surround a first part of a beam path (214), a second module (204) which can be connected to the first module (202) and is designed to surround a second part of a beam path (214), and a sensor device (228) provided on the first module (202) and configured to detect a position of the second module (204) relative to the first module (202) independently of and/or outside the beam path (214), so as to align the first module (202) and the second module (204) with each other on the basis of measurements obtained by the sensor device (228), wherein the first module (202) and/or the second module (204) has a mirror (212, 222).

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