Invention Application
- Patent Title: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、フォトマスク、電子デバイスの製造方法、及び化合物
- Patent Title (English): ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND
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Application No.: PCT/JP2019/033803Application Date: 2019-08-28
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Publication No.: WO2020045535A1Publication Date: 2020-03-05
- Inventor: 福▲崎▼ 英治 , 三好 太朗 , 米久田 康智 , 高橋 年哉 , 石原 英幸
- Applicant: 富士フイルム株式会社
- Applicant Address: 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo JP
- Assignee: 富士フイルム株式会社
- Current Assignee: 富士フイルム株式会社
- Current Assignee Address: 〒1068620 東京都港区西麻布２丁目２６番３０号 Tokyo JP
- Agency: 特許業務法人航栄特許事務所
- Priority: JP2018-164085 20180901; JP2018-248643 20181228
- Main IPC: G03F7/004
- IPC: G03F7/004 ; C07C309/58 ; C07C381/12 ; G03F7/039 ; G03F7/20
Abstract:
本発明は、（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物であって、特定構造で表される化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、フォトマスク、電子デバイスの製造方法、及び化合物を提供する。
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IPC分类:
