Invention Application

めっき積層体
Abstract:
導体回路等の表面に付与するめっき積層体(めっき皮膜の積層体)であって、該めっき積層体の上にはんだ接合した際に高い接合強度を維持することができ、また、安定的に製造できるようなめっき積層体を提供する。 第一金属を主成分とする被めっき体Sの上に第二金属を主成分とするめっき層Aを析出させた後、めっき層Aの上にパラジウムを主成分とするめっき層Bを置換反応により析出させ、その後更に、めっき層Bの上に、ニッケルを主成分とするめっき層Cを酸化還元反応により析出させる。第一金属は、例えば、銅である。第二金属は、例えば、金、白金又は銀である。
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