Invention Application
- Patent Title: 断続的電気めっき方法
- Patent Title (English): INTERMITTENT ELECTROPLATING METHOD
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Application No.: PCT/JP2020/021687Application Date: 2020-06-02
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Publication No.: WO2021245766A1Publication Date: 2021-12-09
- Inventor: 今井 第造 , 杉岡 駿 , 長尾 敏光 , 片山 順一
- Applicant: 奥野製薬工業株式会社
- Applicant Address: 〒5410045 大阪府大阪市中央区道修町４丁目７番１０号 Osaka
- Assignee: 奥野製薬工業株式会社
- Current Assignee: 奥野製薬工業株式会社
- Current Assignee Address: 〒5410045 大阪府大阪市中央区道修町４丁目７番１０号 Osaka
- Agency: 特許業務法人三枝国際特許事務所
- Main IPC: C25D3/12
- IPC: C25D3/12 ; C25D3/30 ; C25D3/38 ; C25D7/06 ; C25D17/00
Abstract:
断続的電気めっきにおける微小孔のフィリング性を向上させる技術を提供すること。 多価金属イオンを含有するめっき液を使用することを含む、微小孔を有する被めっき物に対する断続的電気めっき方法。
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