- 专利标题: VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG ERHABENER STRUKTUREN AN GLASELEMENTEN UND VERFAHRENSGEMÄSS HERGESTELLTES GLASELEMENT
- 专利标题(英): METHOD FOR PRODUCING RAISED STRUCTURES ON GLASS ELEMENTS, AND GLASS ELEMENT PRODUCED ACCORDING TO THE METHOD
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申请号: PCT/EP2021/087669申请日: 2021-12-27
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公开(公告)号: WO2022148681A1公开(公告)日: 2022-07-14
- 发明人: ORTNER, Andreas , WAGNER, Fabian , HEISS-CHOUQUET, Markus , DRISCH, Michael , GLÄSSER, Vanessa , HÖRBERG, Annika , PEUCHERT, Ulrich , THOMAS, Jens Ulrich , POLOJARVI, Ville , MÄÄTTÄNEN, Antti
- 申请人: SCHOTT AG
- 申请人地址: Hattenbergstrasse 10
- 专利权人: SCHOTT AG
- 当前专利权人: SCHOTT AG
- 当前专利权人地址: Hattenbergstrasse 10
- 代理机构: BLUMBACH ZINNGREBE PATENTANWÄLTE PARTG MBB
- 优先权: DE10 2021 100 180.3 2021-01-08
- 主分类号: C03C23/00
- IPC分类号: C03C23/00 ; C03C15/00 ; B23K26/55 ; B23K26/06 ; B23K26/073 ; B23K37/00 ; B81C1/00
摘要:
Die Erfindung betrifft ein plattenförmiges Glaselement (1) mit einer ersten Oberfläche (2) und einer zweiten (3), der ersten (2) gegenüberliegend angeordneten Oberfläche, sowie zumindest einer Ausnehmung (10), die zumindest eine der Oberflächen (2, 3) durchbricht, wobei sich die Ausnehmung (10) in eine Längsrichtung (L) und eine Querrichtung (Q) erstreckt und die Längsrichtung (L) der Ausnehmung (10) quer zu der Oberfläche (2, 3) angeordnet ist, die durch die Ausnehmung (10) durchbrochen wird und, wobei die Oberfläche (2, 3), die durch die Ausnehmung (10) durchbrochen wird, zumindest eines der folgenden Merkmale aufweist: - die Oberfläche (2, 3) weist zumindest teilweise um die Ausnehmung (10) herum zumindest eine Erhebung (20) auf, wobei diese Erhebung (20) eine Höhe unterhalb von 5 µm aufweist, - die Oberfläche (2, 3) weist zumindest eine plateauförmige Erhebung (30) auf, dessen Höhe (H1) größer als 0,5 µm, bevorzugt größer als 1 µm, bevorzugt größer als 1,5 µm und/oder kleiner als 6 µm, bevorzugt kleiner als 5 µm, bevorzugt kleiner als 4 µm ist, - die Oberfläche (2, 3) weist einen Mittenrauwert (Ra) auf, der größer ist als 15 nm, bevorzugt größer als 25 nm, bevorzugt größer als 40 nm und/oder kleiner ist als 100 nm, bevorzugt kleiner als 80 nm, bevorzugt kleiner als 60 nm.