Invention Application
WO2023090222A1 半導体装置
审中-公开
- Patent Title: 半導体装置
- Patent Title (English): SEMICONDUCTOR DEVICE
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Application No.: PCT/JP2022/041768Application Date: 2022-11-09
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Publication No.: WO2023090222A1Publication Date: 2023-05-25
- Inventor: チェン ティ , 徳山 健 , 荒木 隆宏 , 楠川 順平 , 島津 ひろみ , 難波 明博
- Applicant: 日立Astemo株式会社
- Applicant Address: 〒3128503 茨城県ひたちなか市高場2520番地 Ibaraki
- Assignee: 日立Astemo株式会社
- Current Assignee: 日立Astemo株式会社
- Current Assignee Address: 〒3128503 茨城県ひたちなか市高場2520番地 Ibaraki
- Agency: 弁理士法人サンネクスト国際特許事務所
- Priority: JP2021-186586 2021-11-16
- Main IPC: H01L23/40
- IPC: H01L23/40 ; H01L23/473 ; H05K7/20
Abstract:
半導体装置は、半導体素子を有する複数のパワーモジュールと、前記複数のパワーモジュールの放熱面側に放熱部材を介して配置され、かつ放熱フィンを有する、複数の放熱ベースと、複数の開口部を有するフレームと、前記放熱ベース及び前記フレームを覆うことで冷媒流路を形成するカバーと、を備え、前記複数の放熱ベースは、前記複数の開口部をそれぞれ塞いでおり、前記カバーは、前記放熱フィンに接触する面に弾性の付勢部を有し、前記放熱ベースを前記パワーモジュールに向かって加圧することで付勢する。
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IPC分类: